Scrubber尾气处理装置

半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,可分为:
1 易燃性气体如SiH4 H2等
2 毒性气体如AsH3,PH3等
3 腐蚀性气体如HF,HCl 等
4 温室效应气体如CF4,NF3等
由于以上四种气体对环境或人体皆具有一定的危害性,必须防止其直接排放大气中,所以,一般半导体厂都以加装大型中央废气处理系统.但此系统仅以水洗涤废气.故其应用范围仅限于处理水溶性气体,无法因应日新月异且分工细微的半导体工艺废气.

Scrubber尾气处理装置半导体工艺废气处理方式
依据废气处理的特性,在处理可分为四种处理方式:
1 水洗式(处理腐蚀性气体)
2 氧化式(处理燃烧性,毒性气体
3 吸附式(干式)(依照吸附材种类处理对应之废气
4 等离子燃烧式(各类型废气皆可处理)
各类型之处理皆有其优缺点及其适用范围. 处理方式水洗时，设备便宜处理方式简单，仅能处理水溶性气体；电热水洗式应用范围较水洗时，运转成本高；干式处理效率佳，不适用于容易堵塞或气体流。