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2020-11
泛半导体在制程生产过程中需要用到各种各样的高纯洁净气体用于制程过程工艺中,那么泛半导体制程工艺常用的混合气体有哪些呢?下面我们由4个制程工艺中来介绍常用的混合气体.1、外延(生长)混合气:在半导体工业中,在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法,生长一层或多层材料所用的气体叫作外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅(DCS)、四氯化硅(SiCl4)和硅烷等。主要用于外延硅淀积、氧化硅膜淀积、氮化硅膜淀积...
2020-11
工业氧是用于工业生产及产品加工的工业气体,质量要求较低一般要求纯度在99%以上为合格。灌装规程不如医用氧气严格,常常会有水分和其他杂质混入并且残留在氧气钢瓶中,混入和残留在钢瓶中的水份会导致氧气瓶内壁锈蚀,从而使瓶内气体带有异味。同时工业氧中还存在一氧化碳、二氧化碳、乙炔等对人体极为有害的杂质,一旦病人吸入过量,会发生呛咳、结痂等现象,引发或加重呼吸系统的病症。 医用氧气俗称干燥氧气:医用氧气纯度要求...
2020-11
由于高纯氮气的化学性质安定,不活泼 只要在低温低压或者是放电的情况下才中止反响 而且无毒无污染,来源普遍,商场代价廉价,平日都是用于做尺度气体的底气。氮气份子是已知的双原子份子中最稳定的,氮气的绝 对份子品质是27。 在国民经济和日常生活中,氮气有普遍的用途。 由于氮的化学惰性,常用作保护气体,如:生果,食物,灯胆添补气。以防止某些物体暴露于空气时被氧所氧化,用氮气添补粮仓,可以使粮食不腐烂、不抽芽,历久保...
2020-11
在半导体行业中,SiNx薄膜材料常作为集成电路最后的钝化保护层。一般通过CVD(化学气相沉积)制成,其中一种常用气态原材料就是硅烷(SiH4),我们今天就以硅烷(SiH4)为例,从安全使用角度来具体分析一下特气柜的设计功能体现在哪些方面?有何作用?从特气使用的角度解释特气柜的功能:硅烷(SiH4)是一种在常温常压下具有恶臭的无色气体。它还是一种在室温下能着火、在空气或卤素气体中能爆炸性燃烧的剧毒性特种气体...
2020-10
近年来,特气的用量在不断增长,随着我国安全方面的法律法规不断健全,人们的安全意识不断提高,各大实验室中,传统供气方式逐渐被更专业、安全的特气系统和特气柜取代,特气系统和特气柜的需求也随之变大。特气柜的作用:在保证用气安全的前提下,实现高纯气体的连续稳定供气!威尼斯WOFLY全自动特气柜(GC)那不低于2.5mm的板材厚度、可随时观察特气柜中情况的防爆窗口、内部PLC程式设计的安全联锁功能、高纯阀件的合理选...
2020-10
在反应室里,气态反应物经化学反应生成固态物质并沉积在硅片表面的薄膜沉积技术,被称为CVD(化学气相沉积)。它有一个基本特征:CVD工艺中反应物必须以气相形式参与反应,配置特气柜的好处就体现在这上面。气体的传送就需要用到供气系统,而这些含薄膜组成原子气体大多是特种气体,具有一定的危险性,如SiNx薄膜,常作为集成电路最后的钝化保护层,提高集成电路的可靠性,所以,需要采用特气系统,配置特气柜。CVD配置...
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